Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Beschichtung Bei diesem Verfahren wird ein Substrat einem oder mehreren flüchtigen chemischen Vorläufern ausgesetzt. Diese Vorläufer reagieren oder zersetzen sich auf der Oberfläche des Substrats in einer Reaktionskammer und erzeugen so einen hochreinen, leistungsstarken Feststoffdünnfilm oder eine Beschichtung. Temperatur und Druck sind kritische Prozessparameter, die die Abscheidungsrate und die Filmqualität steuern.

















