El depósito químico en fase vapor (CVD) es una revestimiento proceso en el que un sustrato se expone a uno o más precursores químicos volátiles. Estos precursores reaccionan o se descomponen en la superficie del sustrato en una cámara de reacción, produciendo una película delgada o recubrimiento sólido de alta pureza y alto rendimiento. Temperatura y presión son parámetros críticos del proceso que controlan la velocidad de deposición y la calidad de la película.

















