Chemical Vapor Deposition (CVD) is a طلاء عملية يتم فيها تعريض الركيزة لمادة كيميائية أولية متطايرة واحدة أو أكثر. تتفاعل هذه المواد الأولية أو تتحلل على سطح الركيزة في حجرة تفاعل، مما ينتج عنه طبقة رقيقة صلبة أو طلاء عالي النقاء والأداء. درجة الحرارة و ضغط هي معايير عملية حاسمة تتحكم في معدل الترسيب وجودة الفيلم.

















