Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technique de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). revêtement Procédé dans lequel un substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs chimiques volatils. Ces précurseurs réagissent ou se décomposent à la surface du substrat dans une chambre de réaction, produisant un film mince ou un revêtement solide de haute pureté et de haute performance. Température et pression sont des paramètres de processus critiques qui contrôlent la vitesse de dépôt et la qualité du film.

















