Chemical Vapor Deposition (CVD) est un revêtement process where a substrate is exposed to one or more volatile chemical precursors. These precursors react or decompose on the substrate’s surface in a reaction chamber, producing a high-purity, high-performance solid thin film or coating. Temperature and pression sont des paramètres de processus critiques qui contrôlent la vitesse de dépôt et la qualité du film.











