Chemical Vapor Deposition (CVD) is a revestimento Processo no qual um substrato é exposto a um ou mais precursores químicos voláteis. Esses precursores reagem ou se decompõem na superfície do substrato em uma câmara de reação, produzindo um filme fino ou revestimento sólido de alta pureza e alto desempenho. A temperatura e pressão São parâmetros críticos do processo que controlam a taxa de deposição e a qualidade do filme.

















