Chemical Vapor Deposition (CVD) ist ein Beschichtung process where a substrate is exposed to one or more volatile chemical precursors. These precursors react or decompose on the substrate’s surface in a reaction chamber, producing a high-purity, high-performance solid thin Film or coating. Temperature and Druck sind kritische Prozessparameter, die die Abscheidungsrate und die Filmqualität steuern.





