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Top-Down-Synthese von Nanomaterialien

1970
Forscher bedient eine Kugelmühle zur Top-Down-Synthese von Nanomaterialien in einem Reinraum.

(Abbildung dient nur zur Veranschaulichung)

Bei der Top-down-Synthese werden Nanomaterialien hergestellt, indem man von einem größeren Material ausgeht und es auf die Nanoskala zerlegt oder strukturiert. Zu den wichtigsten Techniken gehören mechanische Methoden wie Kugelmühlen und lithografische Verfahren wie Fotolithografie, Elektronenstrahllithografie und Nanoimprint-Lithografie. Diese Methoden werden häufig zur Herstellung strukturierter Oberflächen und integrierter Schaltkreise eingesetzt, können aber Oberflächenfehler aufweisen.

Top-Down-Verfahren sind konzeptionell einfach: Sie erweitern traditionelle Mikrofertigungstechniken auf kleinere Dimensionen. Das prominenteste Beispiel ist die Lithografie, der Eckpfeiler der Halbleiterindustrie. Bei der Fotolithografie wird ein lichtempfindliches Polymer (Fotolack) auf ein Substrat aufgetragen. Mithilfe einer Maske wird der Fotolack selektiv mit UV-Licht belichtet. Dies bewirkt eine chemische Veränderung, die das selektive Entfernen der belichteten oder unbelichteten Bereiche ermöglicht. Das darunterliegende Material kann dann geätzt oder abgeschieden werden, wodurch das Muster von der Maske auf das Substrat übertragen wird. Um Strukturen im Nanometerbereich zu erzeugen, werden Lichtquellen mit kürzeren Wellenlängen (z. B. extrem kurze Wellenlängen) verwendet. ultravioletZur Strukturierung werden EUV-Lichtquellen oder alternative Strukturierungsquellen wie Elektronenstrahlen (Elektronenstrahllithografie) verwendet. Die Elektronenstrahllithografie bietet eine sehr hohe Auflösung, ist aber ein langsamer, serieller Prozess und daher für die Massenproduktion ungeeignet, jedoch hervorragend für Prototypen und die Maskenherstellung.

Eine weitere wichtige Klasse von Top-Down-Methoden ist der mechanische Verschleiß. Hochenergetisch Bei der Kugelmühle wird beispielsweise ein Schüttgut in einen Behälter mit harten Mahlkugeln gegeben. Der Behälter rotiert mit hoher Geschwindigkeit, wodurch die Kugeln mit dem Material kollidieren und es zerkleinern. Dadurch wird die Partikelgröße schrittweise bis in den Nanometerbereich reduziert. Dieses Verfahren ist einfach und eignet sich zur Herstellung großer Mengen an Nanopulvern, bietet jedoch nur eine geringe Kontrolle über Partikelform und -größenverteilung und kann Verunreinigungen aus den Mahlkugeln einbringen.

Der Hauptvorteil der Top-Down-Methoden, insbesondere der Lithografie, besteht in der Möglichkeit, präzise geordnete und komplexe Strukturen über große Flächen zu erzeugen, was für integrierte Schaltungen unerlässlich ist. Ein erheblicher Nachteil ist jedoch das Einbringen von kristallografischen Schäden und Oberflächendefekten während des Ätz- oder Fräsprozesses, die sich negativ auf die Eigenschaften des Materials auswirken können.

UNESCO Nomenclature: 2211
- Festkörperphysik

Typ

Chemischer Prozess

Störung

Inkremental

Verwendung

Weitverbreitete Verwendung

Vorläufer

  • Erfindung der Druckerpresse und des frühen Lithografiedrucks
  • Entwicklung der Fotografie und lichtempfindlicher Chemikalien
  • die Erfindung des Transistor und der darauf folgende Drang zur Miniaturisierung in der Elektronik
  • Fortschritte in der Vakuumtechnologie und Plasmaphysik für Ätzprozesse

Anwendungen

  • Herstellung von Computer-Mikroprozessoren und Speicherchips
  • Herstellung von mikroelektromechanischen Systemen (mems)
  • Erstellung gemusterter Oberflächen für biomedizinische Anwendungen
  • Herstellung von Nanopulvern für Keramik und Verbundwerkstoffe
  • Herstellung von Formen für die Nanoimprint-Lithographie

Patente:

NA

Potenzielle Innovationsideen

  • Herstellung von Metaoberflächen für Flachoptik und Holographie
  • Großserienproduktion transparenter leitfähiger Filme auf Graphenbasis durch strukturierte Exfoliation
  • creation of “lab-on-a-chip” devices with nanoscale fluidic channels
  • gemusterte magnetische Medien für die Datenspeicherung mit ultrahoher Dichte
  • biomimetische Oberflächen mit maßgeschneiderten Benetzungs- und Hafteigenschaften
  • scaffolds for tissue engineering with controlled nanotopography
  • Photonische Kristalle für optische Computer und Kommunikation
  • hochpräzise Mikronadel-Arrays zur Arzneimittelabgabe
  • templates for directed self-assembly of bottom-up components
  • Quantencomputerarchitekturen basierend auf lithographisch definierten Qubits
Verwandt mit: Top-down-Synthese, Lithografie, Fotolithografie, E-Beam-Lithografie, Kugelfräsen, Mikrofabrikation, Halbleiter, Ätzen, Nanomusterung, Mems.

Historischer Kontext

Top-Down-Synthese von Nanomaterialien

1962
1963
1965
1970
1970
1974-11-15
1980
1962
1963
1964
1968
1970
1970
1975
1980

(wenn das Datum unbekannt oder nicht relevant ist, z. B. „Strömungsmechanik“, wird eine gerundete Schätzung seines bemerkenswerten Auftretens bereitgestellt)

10. Jahr Jubiläum

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