Die minimale Strukturgröße, die ein Projektions-Photolithographiesystem drucken kann, ist durch Beugung begrenzt und wird näherungsweise durch das Rayleigh-Kriterium bestimmt. Die kritische Abmessung (CD) ergibt sich aus [latex]CD = k_1 cdot frac{lambda}{NA}[/latex], wobei [latex]lambda[/latex] die Wellenlänge des Lichts, NA die numerische Apertur der Linse und [latex]k_1[/latex] ein prozessabhängiger Koeffizient ist. Kleinere Strukturen erfordern kürzere Wellenlängen oder höhere numerische Aperturen.





