La deposizione chimica da vapore (CVD) è un processo di rivestimento processo in cui un substrato viene esposto a uno o più precursori chimici volatili. Questi precursori reagiscono o si decompongono sulla superficie del substrato in una camera di reazione, producendo un film sottile o un rivestimento solido ad alta purezza e ad alte prestazioni. La temperatura e la pressione sono parametri di processo critici che controllano la velocità di deposizione e la qualità del film.
