
Neueste Veröffentlichungen und Patente zur Osmose
This week: silicon nitride, oxide layer, plasma-enhanced atomic layer deposition, conversion, thermal driven, water desalination, forward osmosis, draw solution, ceramic
Silizium ist ein grundlegendes Halbleitermaterial, das aufgrund seiner hervorragenden elektrischen Eigenschaften in der Elektronikindustrie weit verbreitet ist und die Herstellung integrierter Schaltungen und verschiedener elektronischer Komponenten ermöglicht. Bei der Produktentwicklung und -innovation dient Silizium als Rückgrat der modernen Technologie und ermöglicht Fortschritte in der Computertechnik, Telekommunikation und Unterhaltungselektronik. Sein Vielseitigkeit reicht bis hin zu Anwendungen in Solarzellen und Sensoren und ist damit ein entscheidendes Element für eine nachhaltige und zukunftsweisende Produktentwicklung.
This week: silicon nitride, oxide layer, plasma-enhanced atomic layer deposition, conversion, thermal driven, water desalination, forward osmosis, draw solution, ceramic
{{Titel}}
{% if excerpt %}{{ excerpt | truncatewords: 55 }}
{% endif %}