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用于薄膜沉积的旋涂

1958
实验室技术员在洁净室中进行旋涂薄膜沉积操作。

(图片仅供参考)

旋转 涂层 is a procedure for depositing uniform thin films onto flat substrates. An excess of a coating solution is placed on the substrate, which is then rotated at high speed. Centrifugal force spreads the solution, and solvent evaporation or curing solidifies the 电影, with the final thickness determined by 粘度浓度和旋转速度。

旋涂工艺分为四个主要阶段:沉积、旋升、旋脱和蒸发。在沉积阶段,过量的涂层液被分配到基底表面。在旋转上升阶段,基底被迅速加速到最终所需的旋转速度,从而使流体在离心力的作用下径向向外流动。随后是旋出阶段,多余的流体从基底边缘喷出,薄膜变薄。最后是蒸发阶段,溶剂从薄膜中蒸发,留下固体涂层。薄膜的厚度与几个参数有很大关系。Emslie、Bonner 和 Peck 建立的模型表明,最终薄膜厚度 [latex]h_f[/latex] 与角速度 [latex]\omega[/latex]、初始溶液浓度和溶剂蒸发率的反平方根成正比,同时也是流体粘度 [latex]\nu[/latex] 的函数。该公式通常简化为 [latex]h_f \propto \omega^{-1/2}[/latex] 。这种技术因其简单、快速以及能在实验室规模上生成厚度从几纳米到几微米的高度均匀的薄膜而备受青睐。然而,它本身是一种批量工艺,可能会造成浪费,因为初始溶液的很大一部分会被甩出基底。

UNESCO Nomenclature: 3322
- 材料技术

类型

物理过程

中断

递增

用法

广泛使用

前体

  • 克里斯蒂安·惠更斯发现离心力
  • 电动机的发展
  • 可溶性聚合物和光刻胶的合成
  • 了解流体动力学和溶剂蒸发原理

应用程序

  • 微电子和半导体器件的制造
  • 制造抗反射层等光学涂层
  • 有机发光二极管(OLED)的发明
  • 生产光盘(CD)和数字多功能光盘(DVD)
  • 新材料和传感器的研究与开发

专利:

NA

潜在创新理念

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相关内容: 旋转涂层、薄膜、沉积、基底、离心力、半导体、光刻、聚合物溶液、均匀涂层、材料科学。

历史背景

用于薄膜沉积的旋涂

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(如果日期未知或不相关,例如“流体力学”,则提供其显著出现的近似估计)

相关发明、创新和技术原理

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