化学气相沉积（CVD）领域的最新出版物和专利
This week: PECVD, hexagonal boron nitride, 3D integrated circuits, inter metal dielectric, Sustainable fuels, catalytic process, diesel fuel, hydrogenation, in-situ
化学气相沉积（CVD）
化学气相沉积（CVD）是一种材料加工技术，在这种技术中，挥发性前驱气体被输送到加热的基底上，在基底上发生化学反应或分解，形成保形固体薄膜或涂层。该技术可实现高纯度、均匀、成分可控的薄膜（金属、氧化物、氮化物、碳化物和半导体化合物），应用于电子、光学、保护涂层、微机电系统和催化剂等产品的设计、研发和生产。通过调整温度、压力、气体流量和前驱体化学成分等参数，并选择 LPCVD、PECVD 或 MOCVD 等变体，可对薄膜的微观结构、性能、吞吐量和从实验室到批量生产的可扩展性进行优化。.
纳米材料领域的最新出版物和专利
This week: PSS, composite sponge, solar-driven purification, environmental sustainability, qubit, silicon chip, electromagnetic field, two-qubit operations, electrothermal fluorination, lithium recovery,
有关渗透的最新出版物和专利
This week: Kluyveromyces marxianus, microbial agent, osmotic pressure resistance, acid resistance, anoxic biofilms, partial denitrification, anammox, nitrogen removal, GLP-1 peptide,