化学蒸気 Deposition (CVD) は コーティング process where a substrate is exposed to one or more volatile chemical precursors. These precursors react or decompose on the substrate’s surface in a reaction chamber, producing a high-purity, high-performance solid thin 膜 or coating. Temperature and プレッシャー これらは、成膜速度と膜質を制御する重要なプロセスパラメータです。





