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Top-Down-Synthese von Nanomaterialien

1970
Forscher beim Betrieb einer Kugelmühle für die Top-Down-Synthese von Nanomaterialien in einem Reinraum.

(generate image for illustration only)

Bei der Top-down-Synthese werden Nanomaterialien hergestellt, indem man von einem größeren Material ausgeht und es auf die Nanoskala zerlegt oder strukturiert. Zu den wichtigsten Techniken gehören mechanische Methoden wie Kugelmühlen und lithografische Verfahren wie Fotolithografie, Elektronenstrahllithografie und Nanoimprint-Lithografie. Diese Methoden werden häufig zur Herstellung strukturierter Oberflächen und integrierter Schaltkreise eingesetzt, können aber Oberflächenfehler aufweisen.

Top-down-Ansätze sind konzeptionell einfach: Sie sind eine Erweiterung traditioneller Mikrofabrikationstechniken auf kleinere Dimensionen. Das bekannteste Beispiel ist die Lithografie, der Eckpfeiler der Halbleiterindustrie. Bei der Fotolithografie wird ein Substrat mit einem lichtempfindlichen Polymer (Fotolack) beschichtet. Mithilfe einer Maske wird der Lack selektiv UV-Licht ausgesetzt, wodurch eine chemische Veränderung entsteht, die das selektive Entfernen der belichteten oder unbelichteten Bereiche ermöglicht. Das darunterliegende Material kann dann geätzt oder abgeschieden werden, wodurch das Muster von der Maske auf das Substrat übertragen wird. Um Merkmale im Nanomaßstab zu erzielen, werden Lichtquellen mit kürzerer Wellenlänge (z. B. extremes Ultraviolett, EUV) oder alternative Strukturierungsquellen wie Elektronenstrahlen (Elektronenstrahllithografie) verwendet. Die Elektronenstrahllithografie bietet eine sehr hohe Auflösung, ist jedoch ein langsamer, serieller Prozess. Daher ist sie für die Massenproduktion ungeeignet, eignet sich jedoch hervorragend für die Prototypenentwicklung und Maskenherstellung.

Eine weitere wichtige Klasse von Top-down-Methoden ist die mechanische Zerkleinerung. Beim Hochenergie-Kugelmahlen beispielsweise wird ein Schüttgut in einen Behälter mit harten Mahlkörpern (Kugeln) gegeben. Der Behälter wird mit hoher Geschwindigkeit rotiert, wodurch die Kugeln mit dem Material kollidieren und es zerbrechen, wodurch dessen Partikelgröße schrittweise bis in den Nanometerbereich reduziert wird. Diese Methode ist einfach und skalierbar für die Herstellung großer Mengen von Nanopulver, bietet jedoch eine schlechte Kontrolle über Partikelform und -größenverteilung und kann Verunreinigungen durch die Mahlkörper einbringen.

The primary advantage of top-down methods, particularly lithography, is the ability to create precisely ordered and complex structures over large areas, which is essential for integrated circuits. However, a significant drawback is the introduction of crystallographic damage and surface defects during the etching or milling process, which can negatively impact the material’s properties.

UNESCO Nomenclature: 2211
- Festkörperphysik

Typ

Chemischer Prozess

Unterbrechung

Inkremental

Verwendung

Weit verbreitete Verwendung

Vorläufersubstanzen

  • Erfindung der Druckerpresse und des frühen Lithografiedrucks
  • Entwicklung der Fotografie und lichtempfindlicher Chemikalien
  • the invention of the Transistor and the subsequent drive for miniaturization in electronics
  • Fortschritte in der Vakuumtechnologie und Plasmaphysik für Ätzprozesse

Anwendungen

  • Herstellung von Computer-Mikroprozessoren und Speicherchips
  • fabrication of microelectromechanical systems (mems)
  • Erstellung gemusterter Oberflächen für biomedizinische Anwendungen
  • Herstellung von Nanopulvern für Keramik und Verbundwerkstoffe
  • Herstellung von Formen für die Nanoimprint-Lithographie

Patente:

NA

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Historischer Kontext

Top-Down-Synthese von Nanomaterialien

1960
1960
1963
1970
1974-11-15
1980
1986
1960
1960
1961
1968
1970
1980
1980
1990

(wenn das Datum nicht bekannt oder nicht relevant ist, z. B. "Strömungsmechanik", wird eine gerundete Schätzung des bemerkenswerten Erscheinens angegeben)

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