化学气相沉积（CVD）

化学气相沉积（CVD）是一种材料加工技术，在这种技术中，挥发性前驱气体被输送到加热的基底上，并在基底上发生化学反应或分解，形成保形固体薄膜或絮凝剂。 涂层.它可实现高纯度、均匀和成分可控的薄膜（金属、氧化物、氮化物、碳化物和半导体化合物），应用于电子、光学和保护涂层领域的产品设计、研发和生产、 微机电系统 和催化剂。通过调整温度、压力、气体流量和前驱体化学成分等参数，以及选择 LPCVD、PECVD 或 MOCVD 等变体，可以优化薄膜的微观结构、性能、吞吐量和从实验室到批量生产的可扩展性。