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Sintesi di nanomateriali dall'alto verso il basso

1970
Ricercatore che opera il mulino a sfere per la sintesi top-down di nanomateriali in camera bianca.

(generate image for illustration only)

La sintesi top-down prevede la creazione di nanomateriali partendo da un materiale più grande e sfuso e scomponendolo o modellandolo fino alla scala nanometrica. Le tecniche chiave includono metodi meccanici come la macinazione a sfere e metodi litografici come la fotolitografia, la litografia a fascio elettronico e la litografia a nanoimpronta. Questi metodi sono spesso utilizzati per creare superfici strutturate e circuiti integrati, ma possono presentare imperfezioni superficiali.

Gli approcci top-down sono concettualmente semplici: rappresentano un'estensione delle tecniche di microfabbricazione tradizionali a dimensioni più piccole. L'esempio più importante è la litografia, pietra angolare dell'industria dei semiconduttori. Nella fotolitografia, un polimero fotosensibile (fotoresist) viene applicato su un substrato. Una maschera viene utilizzata per esporre selettivamente il resist alla luce UV, provocando una trasformazione chimica che consente la rimozione selettiva delle regioni esposte o non esposte. Il materiale sottostante può quindi essere inciso o depositato, trasferendo il pattern dalla maschera al substrato. Per ottenere caratteristiche su scala nanometrica, vengono utilizzate sorgenti luminose a lunghezza d'onda più corta (ad esempio, ultravioletto estremo, EUV) o sorgenti di patterning alternative come i fasci di elettroni (litografia a fascio elettronico). La litografia a fascio elettronico offre una risoluzione molto elevata, ma è un processo lento e seriale, il che la rende inadatta alla produzione di massa, ma eccellente per la prototipazione e la realizzazione di maschere.

Un'altra importante classe di metodi top-down è l'attrito meccanico. La macinazione a sfere ad alta energia, ad esempio, colloca un materiale sfuso in un contenitore con un mezzo di macinazione duro (sfere). Il contenitore viene ruotato ad alta velocità, provocando la collisione delle sfere con il materiale e la sua frattura, riducendone progressivamente le dimensioni delle particelle fino alla scala nanometrica. Questo metodo è semplice e scalabile per la produzione di grandi quantità di nanopolveri, ma offre uno scarso controllo sulla forma e sulla distribuzione granulometrica delle particelle e può introdurre impurità provenienti dal mezzo di macinazione.

The primary advantage of top-down methods, particularly lithography, is the ability to create precisely ordered and complex structures over large areas, which is essential for integrated circuits. However, a significant drawback is the introduction of crystallographic damage and surface defects during the etching or milling process, which can negatively impact the material’s properties.

UNESCO Nomenclature: 2211
- Fisica dello stato solido

Tipo

Processo chimico

Interruzione

Incrementale

Utilizzo

Uso diffuso

Precursori

  • invenzione della stampa e prima stampa litografica
  • sviluppo della fotografia e dei prodotti chimici fotosensibili
  • the invention of the transistor and the subsequent drive for miniaturization in electronics
  • progressi nella tecnologia del vuoto e nella fisica del plasma per i processi di incisione

Applicazioni

  • produzione di microprocessori per computer e chip di memoria
  • fabrication of microelectromechanical systems (mems)
  • creazione di superfici modellate per applicazioni biomediche
  • produzione di nanopolveri per ceramiche e compositi
  • fabbricazione di stampi per litografia nanoimprint

Brevetti:

NA

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Contesto storico

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(se la data non è nota o non è rilevante, ad esempio "meccanica dei fluidi", viene fornita una stima approssimativa della sua notevole comparsa)

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