Deposición química de vapor (CVD)

La deposición química en fase vapor (CVD) es una técnica de procesamiento de materiales en la que los gases precursores volátiles se envían a un sustrato calentado donde reaccionan químicamente o se descomponen para formar una película sólida conforme o revestimiento. Permite obtener películas finas de gran pureza, uniformidad y composición controlada (metales, óxidos, nitruros, carburos y compuestos semiconductores) que se utilizan en el diseño, I+D y producción de productos electrónicos, ópticos y revestimientos protectores, MEMS y catalizadores. Mediante el ajuste de parámetros como la temperatura, la presión, el flujo de gas y la química del precursor -y la elección de variantes como LPCVD, PECVD o MOCVD- se puede optimizar la microestructura de la película, el rendimiento, la producción y la escalabilidad desde el laboratorio hasta la fabricación en serie.