Deposizione fisica da vapore (PVD)

Fisico Deposizione di vapore (PVD) è un processo sotto vuoto rivestimento processo utilizzato per depositare film sottili di materiale su vari substrati, migliorandone le proprietà superficiali. Questa tecnica prevede la trasformazione fisica di un materiale solido in vapore, che poi si condensa sulla superficie di destinazione, creando un rivestimento uniforme e aderente. La PVD è ampiamente utilizzata in settori quali l'elettronica, l'ottica e l'aerospaziale per la sua capacità di produrre rivestimenti durevoli e ad alte prestazioni con un controllo preciso dello spessore e della composizione.