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Synthèse descendante de nanomatériaux

1970
Chercheur utilisant un broyeur à billes pour la synthèse descendante de nanomatériaux dans une salle blanche.

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La synthèse descendante consiste à créer des nanomatériaux en partant d'un matériau massif et volumineux, puis en le décomposant ou en le modelant à l'échelle nanométrique. Les techniques clés incluent des méthodes mécaniques comme le broyage à billes et des méthodes lithographiques comme la photolithographie, la lithographie par faisceau d'électrons et la lithographie par nano-impression. Ces méthodes sont souvent utilisées pour créer des surfaces structurées et des circuits intégrés, mais peuvent présenter des imperfections de surface.

Les approches descendantes sont conceptuellement simples : elles constituent une extension des techniques traditionnelles de microfabrication à des dimensions plus petites. L’exemple le plus frappant est la lithographie, pierre angulaire de l’industrie des semi-conducteurs. En photolithographie, un polymère photosensible (photorésine) est déposé sur un substrat. Un masque est utilisé pour exposer sélectivement la résine aux UV, provoquant une modification chimique permettant l’élimination sélective des zones exposées ou non. Le matériau sous-jacent peut ensuite être gravé ou déposé, transférant le motif du masque au substrat. Pour obtenir des caractéristiques nanométriques, on utilise des sources lumineuses de longueur d’onde plus courte (par exemple, ultraviolet extrême, EUV) ou d’autres sources de motifs comme les faisceaux d’électrons (lithographie par faisceau d’électrons). La lithographie par faisceau d’électrons offre une très haute résolution, mais c’est un procédé lent et en série, ce qui la rend inadaptée à la production de masse, mais excellente pour le prototypage et la fabrication de masques.

Une autre grande classe de méthodes descendantes est l'attrition mécanique. Le broyage à billes à haute énergie, par exemple, place un matériau en vrac dans un récipient contenant des billes de broyage dures. Le récipient tourne à grande vitesse, ce qui provoque la collision des billes avec le matériau et sa fracture, réduisant progressivement sa taille de particules jusqu'à l'échelle nanométrique. Cette méthode est simple et évolutive pour la production de grandes quantités de nanopoudres, mais elle offre un faible contrôle de la forme et de la granulométrie des particules et peut introduire des impuretés provenant des billes de broyage.

The primary advantage of top-down methods, particularly lithography, is the ability to create precisely ordered and complex structures over large areas, which is essential for integrated circuits. However, a significant drawback is the introduction of crystallographic damage and surface defects during the etching or milling process, which can negatively impact the material’s properties.

UNESCO Nomenclature: 2211
- Physique de l'état solide

Taper

Processus chimique

Perturbation

Incrémentale

Usage

Utilisation généralisée

Précurseurs

  • invention de l'imprimerie et début de l'impression lithographique
  • développement de la photographie et des produits chimiques photosensibles
  • the invention of the transistor and the subsequent drive for miniaturization in electronics
  • progrès de la technologie du vide et de la physique du plasma pour les procédés de gravure

Applications

  • fabrication de microprocesseurs informatiques et de puces mémoire
  • fabrication of microelectromechanical systems (mémoires)
  • création de surfaces à motifs pour applications biomédicales
  • production de nanopoudres pour céramiques et composites
  • fabrication de moules pour la lithographie par nano-impression

Brevets:

NA

Idées d'innovations potentielles

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Contexte historique

Synthèse descendante de nanomatériaux

1960
1960
1963
1970
1974-11-15
1980
1986
1960
1960
1961
1968
1970
1980
1980
1990

(si la date est inconnue ou non pertinente, par exemple « mécanique des fluides », une estimation arrondie de son émergence notable est fournie)

Inventions, innovations et principes techniques connexes

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