بيت » Chemical Vapor Deposition (CVD)

Chemical Vapor Deposition (CVD)

1960
حجرة التفريغ القابل للتصوير بالقنوات القلبية الوسيطة لتصنيع أشباه الموصلات مع الركيزة والسلائف الكيميائية.

الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي (CVD) هو طلاء عملية يتم فيها تعريض الركيزة لواحد أو أكثر من السلائف الكيميائية المتطايرة. وتتفاعل هذه السلائف أو تتحلل على سطح الركيزة في غرفة التفاعل، مما ينتج طبقة رقيقة أو طلاء صلب عالي النقاء وعالي الأداء. تعتبر درجة الحرارة والضغط من معلمات العملية الحرجة التي تتحكم في معدل الترسيب وجودة الفيلم.

CVD is a highly versatile process capable of producing a wide variety of materials, including metals, ceramics, and polymers. The process begins with the introduction of gaseous precursor molecules into a vacuum chamber containing the heated substrate. The high temperature of the substrate provides the energy needed to break the chemical bonds in the precursor molecules, a process known as pyrolysis. The resulting reactive species then adsorb onto the substrate surface, diffuse, and react to form a stable solid film. Byproducts of the reaction are then desorbed and pumped out of the chamber. There are numerous variations of CVD, each tailored for specific applications. For example, Metalorganic CVD (MOCVD) uses metalorganic precursors and is crucial for manufacturing compound semiconductor devices like LEDs. Plasma-Enhanced CVD (PECVD) uses a plasma to energize the precursor gases, allowing deposition at lower temperatures, which is essential for substrates that cannot withstand high heat. Atomic Layer Deposition (ALD), a subtype of CVD, involves sequential, self-limiting surface reactions, enabling the deposition of films with atomic-level thickness control. The quality, stoichiometry, and morphology of the deposited film are precisely controlled by adjusting parameters like substrate temperature, chamber pressure, gas flow rates, and precursor chemistry.

UNESCO Nomenclature: 3322
- تكنولوجيا المواد

النوع

العملية الكيميائية

الاضطراب

التأسيسية

الاستخدام

الاستخدام الواسع النطاق

السلائف

  • understanding of gas-phase chemical kinetics
  • development of vacuum technology
  • synthesis of volatile chemical compounds (precursors)
  • advances in high-temperature furnace technology
  • theories of nucleation and film growth

التطبيقات

  • semiconductor device fabrication (e.g., silicon dioxide, silicon nitride, polysilicon layers)
  • إنتاج الطلاءات الصلبة لأدوات القطع (على سبيل المثال, التيتانيوم نيتريد)
  • manufacturing of optical fibers
  • creation of synthetic diamonds
  • corrosion and high-temperature resistant coatings for aerospace components

براءات الاختراع:

NA

أفكار ابتكارات محتملة

!!مستويات !!! العضوية مطلوبة

يجب أن تكون عضوًا !!! مستويات!!! للوصول إلى هذا المحتوى.

انضم الآن

هل أنت عضو بالفعل؟ سجّل الدخول هنا
ذات صلة ب: cvd، ترسيب البخار الكيميائي، ترسيب البخار الكيميائي، الأغشية الرقيقة، أشباه الموصلات، السلائف، الترسيب، الطلاء، البلازما، mocvd، هندسة الأسطح.

اترك تعليقاً

لن يتم نشر عنوان بريدك الإلكتروني. الحقول الإلزامية مشار إليها بـ *

متاح للتحديات الجديدة
مهندس ميكانيكي، مشروع، هندسة العمليات أو مدير البحث والتطوير
تطوير المنتج الفعال

متاح لتحدي جديد في غضون مهلة قصيرة.
تواصل معي على LinkedIn
تكامل الإلكترونيات المعدنية والبلاستيكية، التصميم مقابل التكلفة، ممارسات التصنيع الجيدة (GMP)، بيئة العمل، الأجهزة والمواد الاستهلاكية متوسطة إلى عالية الحجم، التصنيع المرن، الصناعات الخاضعة للتنظيم، شهادات CE وFDA، التصميم بمساعدة الحاسوب (CAD)، Solidworks، الحزام الأسود من Lean Sigma، شهادة ISO 13485 الطبية

نحن نبحث عن راعي جديد

 

هل شركتك أو مؤسستك متخصصة في التقنية أو العلوم أو الأبحاث؟
> أرسل لنا رسالة <

احصل على جميع المقالات الجديدة
مجاني، لا يوجد بريد عشوائي، ولا يتم توزيع البريد الإلكتروني ولا إعادة بيعه

أو يمكنك الحصول على عضويتك الكاملة -مجانًا- للوصول إلى جميع المحتويات المحظورة >هنا<

السياق التاريخي

(إذا كان التاريخ غير معروف أو غير ذي صلة، على سبيل المثال "ميكانيكا الموائع"، يتم تقديم تقدير تقريبي لظهوره الملحوظ)

الاختراع والابتكار والمبادئ التقنية ذات الصلة

انتقل إلى الأعلى

قد يعجبك أيضاً